發布時間：2023-08-11 瀏覽次數：2100
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設備簡介：
PECVD（等離子增強化學氣相沉積）技術是借助于等離子體的輝光放電使得含有薄膜組成的氣態物質發生化學反應，從而實現薄膜生長的一種制備技術，主要用于硅的氧化物或者氮化物的沉積；高溫爐采用的是高純硅碳棒加熱的原理，可以實現高溫燒結，適用于大多數材料的熱處理以及熔煉工藝，整體采用國際先進制造工藝，并且從美學藝術角度出發，根據人體安全的角度進行設計。它采用PLC控制，觸摸屏操作。
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配置詳情
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主要特點：
1、高溫燒結。 2、控制穩定可靠，操作方便，安全防護措施完善。 3、采用先進的PID自學習模糊控制，控溫精度高，保持在±1℃。 4、爐襯采用高純氧化鋁輕質纖維材料，保溫效果更好，節能降耗。 5、具有物聯網功能（WIFI），可通過手機、電腦遠程對設備進行監控，操作。 6、數據存儲功能，可保存燒結的重要參數，時長達30天之久（每天開機8小時）。 7、配方功能，可預存配方20條以上。 8、聯網功能，通過RJ45接口，采用TCP/IP協議，可以讓系統與上位機相連（上位機需安裝相應軟件）。
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型號 |
NBD-PECVD1500-80TID3ZY |
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供電電源 |
單相220V 50HZ |
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控溫精度 |
±1℃ |
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觸摸屏尺寸 |
7" |
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射頻頻率 |
13.56MHz |
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射頻功率輸出范圍 |
0-500W |
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沉積加熱額定功率 |
3KW |
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傳感器類型 |
S 型φ8*180mm |
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沉積Tmax |
1500℃ |
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沉積額定溫度 |
1450℃ |
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推薦升溫速率 |
≤5℃/min |
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爐管材質及規格 |
剛玉Φ80*1200mm 外徑*長度（厚度） |
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沉積管徑 |
Φ80mm*1200mm |
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爐膛尺寸 |
單個溫區長175*高160*深140mm |
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PECVD外形尺寸 |
長1500×高1350×深830mm |
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氣氛條件 |
混合氣、真空等 |
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滑動方式 |
電機驅動同步帶 |
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電機轉速 |
3-4轉每分鐘 |
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一轉行程 |
114mm |
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推拉最大行程 |
340mm 爐膛中心到線圈中心的距離 |
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機械泵抽氣速率 |
5m3/h |
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爐腔極限真空度 |
3~5Pa |
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重量 |
約240KG |
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設備細節 |
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流程控制畫面
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控制系統 |
1、燒結工藝曲線設置：動態顯示設置曲線，設備燒結可預存多條工藝曲線，每條工藝曲線可自由設置；
2、可預約燒結，實現無人值守燒結工藝曲線燒結；
3、實時顯示燒結功率電壓等信息并記錄燒結數據，并可導出實現無紙記錄；
4、具有實現遠程操控，實時觀測設備狀態；
5、溫度校正：主控溫度和試樣溫度的差值，燒結全程進行非線性修正。
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| 重量 |
約240KG |
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設備使用注意事項 |
1. 射頻匹配器一般處于自動匹配狀態，一般功率需達到50W以上才能匹配； |
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服務支持 |
一年有限保修，提供終身支持； |
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